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ITO基膜

产品说明

融合了国际最新纳米防刮材料技术以及先进的涂布工艺,在高等级洁净环境下制造的双面硬化ITO 基膜,具有诸多优异性能

产品特性

1.折射率匹配性好
2.超低晶点
3.低彩虹
4.电镀性能好
  • 产品结构
  • 产品物性
  •  

    Subject

    Test Method

    Test Resuts

    光学特性

    Total Light Transmittance(%)

    IM-HC

    ASTM D-1003

    >90

    Haze(%)

    AB-HC

    ASTM D-1003

    <1

    b*

    ——

    JIS K7105

    <1.2

     

    Refractive index

    IM-HC

     

    阿贝折射仪

    1.65

    AB-HC

    1.46-1.52

    物理特性

    厚度

    千分尺

    可定制

     

    铅笔硬度

    IM-HC

    三菱铅笔,750g 负载

    1H

    AB-HC

    三菱铅笔,750g 负载

    1H

    其它特性

    非 IM 面达因值

    150℃/30min,3s, 撕掉保护膜

    ≥34

     

    热收缩(%)

    MD

    150℃/30min

    <0.5

    TD

    150℃/30min

    <0.25

    耐高温保护膜特性

    基材厚度

    电子千分尺

    50

    胶厚

    电子千分尺

    10

    热收缩率 MD 方向

    400mm x 400mm / 150℃×30min

    <0.5%

    热收缩率 TD 方向

    400mm x 400mm / 150℃×30min

    <0.35%

    粘着力

    (g/25mm@HC PET)

    PSTC-1(150℃×30min)

    <25

    PSTC-1(RT×24hrs)

    5-20

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